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新葡新京十大正规网站纳米自主研发的低温选择性外延平台,在制造、能耗和生产效率上取得一些列突破性创新成果,并成为全球第三种加热灯管设计的外延设备。该设备可用于8/12英寸逻辑、存储和外延片等硅基同质、异质外延生长。设备的预真空腔采用双层设计,兼顾进样和冷却;工艺腔体配置公司自主研发的前处理系统,可实现更低衬底伤害下的高质量表面处理;传输系统在对晶圆抓取、摆放、升降和温控等进行创新优化后,可实现锗硅和硅外延工艺产能的大幅提升。该平台总共可配置2个前处理和4个EPI工艺腔体,能完全满足主流晶圆厂产能需求。
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新葡新京十大正规网站纳米团簇式ALD设备,是集成电路先进工艺的关键薄膜沉积设备,基于自主研发的Elegant Cluster平台打造,主要应用于8 /12英寸逻辑、存储器件等生产制造,可满足氧化物、氮化物、金属等多种薄膜沉积需求。该设备实现了PE和Thermal工艺的无缝衔接,大幅提高了工艺稳定性和生产效率。其中,Thermal ALD工艺腔配置了plasma自清洁功能,有助于提高设备的可靠性和延长PM周期,进一步提升了性能和竞争力。该平台的各项工艺性能均达到了国际先进水平,并获得多方客户的肯定。
新葡新京十大正规网站纳米自主开发的团簇式ALD设备,应用于化合物半导体等领域量产客户。集成8~10个工艺腔体自主研发的VTM传输系统,配置2个冷却站,分别同时冷却5片晶圆配置2 loadlocks(25pcs/loadlock),自带内部自清洁功能,保障晶圆洁净工艺腔体本底压力低,极大控制氮化物膜层的氧含量独特工艺腔体设计,保证良好的温度场和流场特有等离子体处理技术,可有效减少高能离子对局部膜层的损伤维护便利,自带起重系统,极大减少系统组装、检修、维护时间。
GRACE-MX 是新葡新京十大正规网站自主研发的第一代多层平板式原子层薄膜沉积(ALD)系统。采用独特的模块设计,通过对腔体和前驱源进气系统的优化,实现了超高的工艺稳定性,并支持全方位的工艺开发,包括在微机电系统、光学、化学和工业领域等的应用,且所开发的材料覆盖众多氧化物(例如SiO2/SnO2/HfO2/Al2O3等),可容纳样品尺寸最大300mm*300mm,针对不同领域的研发,最大可容纳样品尺寸及层数可根据客户需求量身定制。
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